ダブルパルス磁場源セット プローブヘッド寸法 直径1000µm (ICI-DP HH1000-15)

ウェーブクレスト株式会社|最終更新日:2024/06/21

基本情報

ダブルパルス磁場源セット プローブヘッド寸法	直径1000µm
  • ダブルパルス磁場源セット プローブヘッド寸法	直径1000µm
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高い時間的および空間的分解能で電磁パルスを安全上重要な回路に注入するように設計

製品のハイライト
- 干渉パルス生成用の最高電圧は最大 1000 V
- 25 ns 以内に 2 つの干渉パルスを連続して発生
- コイル径が1000 µm のプローブ チップ

型番
ICI-DP HH1000-15
価格
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発売日
発売中
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ダブルパルス磁場源セット プローブヘッド寸法 直径1000µmの特長

簡単な説明

ハードウェア障害注入は、セキュリティ保護されたシステムをクラックするための確立された潜在的に危険な方法として知られています。電磁障害注入 (EMFI) では、妨害されるシステムが局所的に磁場パルスにさらされ、デバイスの物理的な混乱や論理エラーにつながる可能性があります。通常、めったに発生しない脆弱性を悪用するソフトウェア攻撃とは異なり、ハードウェア攻撃はこれらの脆弱性とは独立して発生するため、より多くのターゲットに対して成功する可能性があります。
 
ICI-DP HH1000-15 セットは、高い時間的および空間的分解能で電磁パルスを安全上重要な回路に注入するように設計されています (電磁障害注入 - EMFI)。このセットは、最小 25 ns のパルス追従時間を持つ単一パルスおよび二重パルス シーケンスを生成するために使用できます。このセットには、高電圧源 BPS 204 とプローブ ICI-DP HH1000-15 が含まれています。
プローブまたは BPS の同期入力を介して、パルスを外部機能シーケンスに同期できます。
パルス電圧や極性などのパラメータは、ソフトウェアで設定できます。
 
新しいパルス プローブの重要な機能の 1 つは、妨害パルスを生成するために使用される拡張された電圧範囲です。最大 1000 V (妨害電力が大幅に増加) により、新しい脆弱性を見つけることができます。
2 つ目の重要な機能は、最小 25 ns 以内に 2 つの妨害パルスを放出できることです。これにより、単一の妨害イベントに対して強化されたシステムへの攻撃を成功させることができます。
Langer EMV-Technik の ICI-DP プローブは、最高のパルス電力を提供し、詳細な分析とデバイスの堅牢な保護を可能にします。
 

納品内容

1x ICI-DP HH1000-15、ダブルパルス磁場ソース
1x BPS 204、バーストパワーステーション
1x BPS 204-Client、BPS 204-Client ソフトウェア
1x HV FI-FI 1 m、高電圧ケーブル、Fischer-Fischer
1x SK FI-FI 7P 1 m、制御ケーブル、Fischer-Fischer
4x SMA-SSMB 1 m、SMA-SSMB 測定ケーブル
1x NT FRI EU 24V、電源ユニット
1x USB-AB、USB ケーブル タイプ A-B
1x ICI-DP ケース、システムケース
1x ICI-DP m、ICI-DP セット ユーザーマニュアル
1x BPS 204 m、BPS 204 ユーザーマニュアル
 

技術的パラメータ

アプリケーション

- 電磁障害注入 (EMFI)
- EM パルス結合
- IC セキュリティ / 組み込みセキュリティ
- ダブル パルス シーケンスによる高度な攻撃が可能

 

ラインアップ

ICI-DP HH250-15:プローブヘッド寸法 直径250μm 
ICI-DP HH500-15:プローブヘッド寸法 直径500μm  
ICI-DP HH1000-15:プローブヘッド寸法 直1000μm

 

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出展企業情報

企業名
ウェーブクレスト株式会社
企業PR
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