EMC試験の製品一覧
全431件見つかりました。内部リファレンス、パルス変調、内部パルス発生器、ステップスイープ
高ダイナミック出力電力 -120 ~ +17dBm、超低位相ノイズ: -105dBc/Hz@10KHz、低高調波およびスプリアスを提供します。半導体、量子技術、レーダー、通信など、多くのテストおよび測定アプリケーションに最適です。
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ウェーブクレスト株式会社|最終更新日:2025/03/26

内部リファレンス、パルス変調、内部パルス発生器、ステップスイープ
高ダイナミック出力電力 -120 ~ +17dBm、超低位相ノイズ: -105dBc/Hz@10KHz、低高調波およびスプリアスを提供します。半導体、量子技術、レーダー、通信など、多くのテストおよび測定アプリケーションに最適です。
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ウェーブクレスト株式会社|最終更新日:2025/03/26

広幅、高出力光硬化コンベアシステム
大型部品の大量生産またはラボ加工用に設計された、広幅、高出力の光硬化コンベアシステムです。 本システムは、コンパクトでプログラム可能な電子式電力調整バラストによって給電される高出力アークランプを特徴としています。
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ウェーブクレスト株式会社|最終更新日:2025/03/25

ラボ用または大量生産用に設計された卓上型またはスタンドマウント型のUV光硬化コンベアシステム
シングルまたはデュアル高輝度ランプヘッドで構成でき、取り外してスタンドマウントシステムとして再構成できるため、汎用性が高まります。 ベルトからランプまでの高さは1.2~6.7インチまで簡単に調整でき、さまざまな部品サイズに対応できます。
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ウェーブクレスト株式会社|最終更新日:2025/03/25

Rayvenは、IntelliRay、SunRay、SkyRay硬化システム用の遮光UV硬化ステーションです。
完全に密閉されたこの硬化チャンバーは、360°の遮光を提供し、最大限のUV保護を保証します。
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ウェーブクレスト株式会社|最終更新日:2025/03/25

工業用UV LEDシステムから発生するエネルギーを正確に測定
特許取得済みの “Total Measured Optic Response “を提供します。 UV LED放射計の「光学スタック」のすべてが、光学フィルターだけでなく、装置全体のレスポンスに含まれます。
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ウェーブクレスト株式会社|最終更新日:2025/03/25

スポットシステムにおけるUV出力を簡単に、ポータブルで、効果的に定量化
● UVスポット硬化システムの性能監視
● 個々のUVランプの性能測定
● ライトガイドの劣化や汚染の測定
● ライトガイド位置の最適化
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ウェーブクレスト株式会社|最終更新日:2025/03/25


他のシステムにはない比類のない柔軟性と機能を提供
コンベア、ベルト、オーブン、投光照射、エリア、スポット、光ファイバー、コリメートビーム、サイド硬化、180°硬化、3Dプリンティング、パルスUVランプ、従来のUVランプ、UV / VIS LED、光源など、あらゆるタイプのUV硬化方法と光源の測定と検証用に最適
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ウェーブクレスト株式会社|最終更新日:2025/03/25

最新の完全統合型で機能豊富な光硬化システム
NovaRay システムは、効率的で均一な後硬化を実現する高輝度 600W UV ランプを備えた、完全に統合された最先端の UV フラッド硬化ソリューションです。
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ウェーブクレスト株式会社|最終更新日:2025/03/25

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